Главная / Уход для лица / Маски / Тканевые маски / Интенсивная маска для лица и шеи SCINIC Intensive Dual Mask Pore Solution для сужения пор

Интенсивная маска для лица и шеи SCINIC Intensive Dual Mask Pore Solution для сужения пор

Артикул: 476389
Интенсивная маска для лица и шеи SCINIC Intensive Dual Mask Pore Solution для сужения пор, очищает, уменьшает и сужает расширенные поры, помогает поддержать баланс и избавить от воспалений на лице, а также активно увлажняет и питает кожу. Интенсивная маска для лица и шеи SCINIC Intensive Dual Mask Pore Solution для сужения пор, предназначена для жирной и проблемной кожи.
Производитель
190.00
0
Кол-во:
Купить в один клик
поделиться:

Интенсивная маска для лица и шеи SCINIC Intensive Dual Mask Pore Solution для сужения пор

Двойная маска для Т-зоны и V-зоны, предназначена для использования если у вас жирная кожа с расширенными порами, загрязнение которых, чаще всего становится причиной появления воспалений, прыщей и камедонов.

Маска очищает, уменьшает и сужает расширенные поры, повышает эластичность кожи, помогает поддержать баланс и избавить от воспалений на лице, а также увлажняет и питает кожу.

Активные компоненты в составе маски: пантенол, экстракт лимона, экстракт томата, экстракт тыквы, экстракт листьев мяты, аллантоин, аргинин. 

6 Free - т.е. маска не содержит искусственных красителей, минеральных масел, материалов животного происхождения, бензофенона, диоксида кремния и талька.

Применение:
1. После умывания, нанесите на кожу тоник и дайте ему впитаться.
2. Плотно наложите маску T-zone на верхнюю часть лица - на лоб, вокруг глаз и нос.
3. Плотно наденьте нижнюю часть маски V-zone на подбородок и шею.
4. Снимите маску через 10 ~ 20 минут, остатки эссенции нежно втереть в кожу.

Объем: 18 мл. + 18 мл.

Авторизуйтесь, чтобы оставить комментарий
Если Вы уже зарегистрированы на нашем сайте, но забыли пароль или Вам не пришло письмо подтверждения, воспользуйтесь формой восстановления пароля.

Назад